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瀏覽器自帶分享功能也很好用哦~使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應多種用途。
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產品詳情
13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機，搭載 RIE·DP 雙模式。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應多種用途。
■特征
● 可變更電極構造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
● 可根據需求規格提供定制。
■用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導體相關部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
■內槽
■規格
■管路連接圖
產品詳情
13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機，搭載 RIE·DP 雙模式。
使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式高性能型號，調取數據簡單，以電子材料為中心，可對應多種用途。
■特征
● 可變更電極構造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。
● 可根據需求規格提供定制。
■用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導體相關部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除
■內槽
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